失效现象

分析方法

图 正常区域SEM-EDX分析

图 发白区域SEM-EDX分析

通过电镜及能谱分析发现，白色部位表面为Si或者SiO2沉积物，且含有少量C，且沉积物大部分为中空球形结构。

图 FTIR分析

综合分析结果如下：
1.白色磨砂区域沉积物主体成分为SiO2，而非Si。
2.沉积物中含有少量的聚酯化合物，此物质可能来自于除胶过程中的光刻胶产生的聚合物碎片沉积在Belljar内壁上的结果。

图 失效机理分析

H2工艺中，Belljar内壁上与RF线圈同平面的环状条带区域受到高浓度H2等离子体的反应刻蚀，表面的SiO2晶体被轰击出来并被H自由基还原成Si颗粒，吸附在刻蚀留下的粗糙面上。在O2工艺中，吸附在粗糙面上的Si颗粒与O自由基发生反应，并发生柯肯达尔效应，生成中空的SiO2球形颗粒。沉积的SiO2颗粒受到H2等离子体的轰击被溅射出来，并在SiO2沉积膜上留下孔洞。溅射出的Si颗粒掉落在晶圆上造成DN。